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高，低真空校准装置

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电容薄膜规真空计

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产品特点 同时显示三路薄膜规，三路可分别调整量程 输入电压误差5MV 可变小数点，单位

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MPCVD单晶金刚石生长机器设备

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微波等离子体化学气相沉积 (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition )是高效、高质量制备金刚石的首选方法，打破了设备对 衬底尺寸的限制，为大面积单晶金刚石生长提供条件。

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差压式气密检漏仪校准规范用标准漏孔和基准物

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气密性检漏仪校准漏孔 VTL-DA型(Air)

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气密性检漏仪一般有直压式，差压式和流量式等，检测系统在真空或正压条件下形成压差，通过判断压力或者流量的变化来计算泄漏量的检测方法。

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